近日，湖北三峡实验室重大科技成果“光刻胶用光引发剂制备专有技术及实验设备所有权”，被湖北兴福电子以4626.78万元收购，即将投入生产。这一突破将有效缓解我国芯片制造领域又一“卡脖子”难题，推动光刻胶产业自主可控。

在芯片制造过程中，光刻胶如同相机的“底片”，而此次转让的成果G/I线光刻胶用光引发剂的关键技术，则能决定光刻胶的感光度和分辨率。

湖北三峡实验室光刻胶用光引发剂项目负责人、博士 周钢翔：主要面向我们国内成熟制程、芯片制造以及面板制造行业，像国内目前的新能源汽车发展迅速，有大量的芯片都需要用到我们G/I线光刻胶，目前这款产品在国内的配方国产化率也是最高的。

近年来，由于进口光引发剂不时面临限购和断供，国内多家光刻胶生产企业生产受阻。在湖北，主攻芯片蚀刻电子级磷酸、电子级硫酸等产品的兴福电子公司，此前就想切入这一产业赛道，却苦于从零研发的高风险不敢贸然行动，于是向以微电子新材料为主要研究方向的三峡实验室提出研发需求。

湖北三峡实验室主任 池汝安：其实我们实验室一直都是企业出题、实验室答题，把我们的科研成果更好地转让落地，为此我们就组织了一个团队来进行深入研究。

在历经三年研发攻坚后，相关技术终于具备产业化条件。目前，该成果已进入产业化前期阶段。

湖北三峡实验室主任 池汝安：我们国内的光刻胶厂生产光刻胶的时候，不仅成本可以降低30%，并且不受制于人，对我国光刻胶的产业的发展会起到非常积极的作用。

（长江云新闻记者 郑莉莉 张琼 黄朋威 猇亭区融媒体中心 李陈震 编审 柳芳）